集成电路布图设计登记

是的，版图一般是没有专利的，但集成电路布图设计登记也算是一个比较特殊的专利了，一般是以公司的名义
对将要投入商用的芯片申请的专利保护，保护期10年，最多15年后不受保护

版图有很多专利的，我就写了一个，布图保护是对每层mask都要保护，这个只是防止别人原封不动的抄袭

请问提交版图时，只需提交版图的一张截图行不行?还是需要提交版图的细节内容如每一层的图?

你是说布图保护吗?是每层mask都要的，还有top图都出一张

那这个分层图样是显示每层mask的截图还是分不同功能底层模块的截图，请问有模板吗?

不分模块的，在TOP上每一层单独截图。还要有一张所有层次的TOP截图。

可是感觉在TOP上截每一mask层的图不太清楚，根本就看不清，怎么能起到保护效果呢?

没错，根本看不清楚，重点不在这里，重点是每提交一个需要交2000元给中国知识产权保护局。公司向政府申请经费的时候，你过往的这个
集成电路布图设计登记就是成绩单。

正解！

那有些mask是生成的，怎么办

你好，公司也让写版图专利，但我觉得无从下手，能帮忙指点一下版图的哪些方面可以写专利吗?