集成电路布图保护

请问集成电路布图保护具体该怎么写，有模板吗?分层图样是每一层mask层在整体版图中的截图吗?还是分模块的版图也需要截出来，如果是每一层mask层在整体版图中的截图是不是会看不清楚?求大神分享模板。

么看明白你的意思

有标准模板，找帮你申请专利的公司要。

这个是我们自己写，没有找代理公司，请问有模板吗?

这个都是自己写，代理公司是从他们的专业角度跟专利局沟通的。

这个我知道，就是不知道要按照什么格式写，专利局是要求提供图样，我是想问图样中的截图是什么图，是在TOP上显示每一mask层次的截图，还是分模块的截图

我得到的信息是在TOP上显示每一mask层次的截图，这个图分辨率不够，所以我个人觉得不总要。不过我接触过不同的代理公司，他们的要求不尽相同，毕竟我们要提供的不仅仅是知识产权局上面的那张申请表，建议还是找代理，这样在通过率、通过时间等等方面比较靠谱。

感觉布图保护的意义不大啊，是不是来骗科研经费的哦

说到经费，目前有园区有政策确实能给报一部分，所以申请费用用不了多少钱。
具体上确实还是有意义，国内这几年昂宝和炬泉都是靠布图登记打赢官司的，但是这种赢意义不大，对方基本就是拖。
另外在申请高新企业等等方面也是有价值的，虽然不高，略逊于实用新型；此外对年终奖避税方面也是有益处的。
上海整体上政策比较正规，这些方面大家还是能做就做，基本不占用时间，没有坏处。