该如何解决
时间：10-02
整理：3721RD
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想问下大家都是怎么解决综合后和版图后时序差异较大的问题
目前所使用的65nm的工艺没有WLM
此外，综合使用DC，P&R使用Encounter
设计规模在几十万门
目前所使用的65nm的工艺没有WLM
此外，综合使用DC，P&R使用Encounter
设计规模在几十万门
http://bbs.eetop.cn/thread-477166-1-1.html
具体问题具体分析