TSMC 180nm LVS电容不识别问题

有没有做过的朋友指导下，mimcap_2p0_sin电容的top和bottom金属的选择方法，我觉得我是金属层没选对，导致LVS根本认不出这种电容，我采用单独一个电容做实验，LVS结果如下图。电容被打散后，总共由M5、CTM4、M4、VIA45组成。

至少少标识版图层，LVS规则里应该有

1、看看MIM的layout画的是否正确；
2、你画单个的MIM电容时，注意各个lable是否都打齐了，包括版图和电路原理图。

Cell是自己画的还是Pcell哇?是不是画错了?有没有少层次或者多余层次?
这个电容实际上是CTM和Mtop-1之间的电容，CTM通过Vtop-1连到Mtop，然后接出去。

问题已经解决，做LVS时要在input->netlist里额外添加TSMC提供的sourc.added文件，这样电容用M5和M4连接后，LVS就可以通过了

还有一种可能是工艺不支持…库里面有这个器件、但是LVS文件里面给注释掉了…