微波EDA网,见证研发工程师的成长!
搜 索
首页
微波射频
射频和无线通信
天线设计
硬件设计
PCB和SI
通信和网络
测试测量
应用设计
研发杂谈
研发问答
首页
>
研发问答
>
微电子和IC设计
>
IC版图设计交流
> tsmc025工艺lvs的问题
tsmc025工艺lvs的问题
时间:10-02
整理:3721RD
点击:
如图片所示,run lvs出现这个结果,求指导这是什么问题啊,应怎么改,谢谢!
看不到图片啊
没图片
上一篇:
IC61 中 path显示问题
下一篇:
Astro 做PR时候,如何设置各层Metal走线方向
lvs
相关文章:
LVS错误请教
版图LVS之后 报错 请高人指点
关于layout中lvs验证的问题
calibre lvs 验证问题
请问这个LVS的警告是什么问题?
上华0.5工艺中数字地模拟地的处理(ADC在lvs中出现的问题)
栏目分类
移动通信
微波和射频技术
无线和射频
PCB设计问答
硬件电路设计
嵌入式设计讨论
手机设计讨论
信号完整性分析
测试测量
微电子和IC设计
热门文章
哪位大神知道什么是深n阱,最
关于LVS中遇到missing injec
TSMC DRC及LVS 警告问题
PEX出错
ERC错误与LVS warning 问题
77GHz Layout
calibre LVS 求助
metal cap mom结构
Copyright © 2017-2020
微波EDA网
版权所有
网站地图
Top