微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 硬件设计 > 行业新闻动态 > 格罗方德宣布2018年年初推出7nm制程

格罗方德宣布2018年年初推出7nm制程

时间:05-15 来源:集微网 点击:

ML合作EUV技术。针对极紫外光(EUV)技术开发,凸版印刷则与ASML及IBM合作。

日本凸版印刷是百年企业,以印刷技术起家,之后跨入电子事业部发展半导体光罩技术,是全球最大光罩解决方案供应商;凸版印刷与华映于1997年在台湾成立子公司中华凸版,2015年成为凸版印刷100%持股的子公司,一路投资0.11微米及70/6x/5x纳米DRAM相关技术,并与华邦合作32纳米Flash技术,不仅量产28纳米逻辑制程光罩,亦投入14纳米制程开发。

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top