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一个关于low power关断设计的问题

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
lib里面提供了两种power gate,一种是它自带tap,连到常开电源,用这种的话关断区域也需要使用连到常开电源的tapcell,这样会用掉一些绕线资源, 还有一种是不带tap的power gate,这样我就可以自己加tapcell ,让它连到关断电源上而不占用绕线资源,但是不知道这种方法有什么缺点?

为什么每次问问题都没人回答我

要我肯定用带tap的,pg一般都自带tap的,啥工艺啥库

gf28 的,关断区域没有常开电源,只有power gate上有,power gate是每隔200um才加一竖条,但是tap是要求116um加一个,因此如果用带tap的power gate,那么所有的tap都必须连到常开电源,lib有一种连到常开的tap是有3个pin的,是要工具绕线才能连到常开

为什么所有的tap都要连接到常开的电源呢

因为power gate的nw是连到常开的,你关断区域不连常开就有sconnect
刚仔细看了下文档,有个地方写了power gate的nw必须连到常开上,那关断区域也要画常开的power了

他们的well是连到一起的么

是的

哦,好吧,那就不知道了,我做的gf28是分开的

gf28的库应该是arm的吧,
power switch的nwell通常是分开的(tsmc的库),即3段,左边和右边的和关断区的stdcell nwell相连接,
中间一个是pmos自己的nwell,通常是常开的,因为要实现控制作用,
关断区的nwell在关断的时候无所谓tap与否了,除非要retention,iso,aon,都接自己独立的nwell,
和关断区nwell保持1um以上的间距,
arm的库没玩过, 各个结构不一样的,
你200um打一条strap,太稀疏了吧, 纵向间距多少, 一般power switch array阵列和tapcell差不多的,
不会查太远,
至于常开nwell的tapcell 主要是用于retention区域的偏置,或那种nwell不分开的区域,
如果是nwell分开,不需要这种单元的



你是物理隔开的吗?

非常感谢!
我以前也只做过tsmc的,以前tsmc的都是400um才加一列,不过tsmc的power switch大一些

arm gf28 的power switch 就一个nw,没有像tsmc那样分开的,如果要和关断区域分开 就只有物理隔开了,貌似也挺麻烦的,还要占掉不少空间

物理隔开 就是隔离些keepout distance即可,2um左右

sorry,可能咱俩的不一样,我的mtcmos打开gds看nw是分三段的你的要不是这种情况我就没遇到过了

so complex

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