Bad device in LVS check
时间：10-02
整理：3721RD
点击：
LVS 时layout 提不出管子，报错为Bad device on multi layer......
单独实验的时候发现只要加Dummy管，LVS就过不去，去掉就能过。
后来发现是一个叫 MULTI 的layer 的问题，必须把这个层删掉才可以
去掉的方法，勾选方框项：
或者选中管子，Flatten之后删掉该层。（不推荐，很可能误删！）
建议： 画版图时，用 Layout XL 自动调管子，这样就不会出现这个烦恼。Dummy也复制已有的修改。
调Instance 的时候记得勾选选项。
对的，找到了LVS extract Rule。
但是有个疑问，有MULTI 那层不是应该识别成 nfet_mul么?怎么什么也提不出来?
多谢指教~
单独实验的时候发现只要加Dummy管，LVS就过不去，去掉就能过。
后来发现是一个叫 MULTI 的layer 的问题，必须把这个层删掉才可以
去掉的方法，勾选方框项：
或者选中管子，Flatten之后删掉该层。（不推荐，很可能误删！）
建议： 画版图时，用 Layout XL 自动调管子，这样就不会出现这个烦恼。Dummy也复制已有的修改。
调Instance 的时候记得勾选选项。
什么工艺
提不出管子，那是你画的管子没有跟lvs文件定义的管子对应上
IBMSiGe(BiCMOS)的
对的，找到了LVS extract Rule。
但是有个疑问，有MULTI 那层不是应该识别成 nfet_mul么?怎么什么也提不出来?
多谢指教~
LVS 形不成device 的原因有很多種, 需要具體問題具體分析.
这是pdk里 layout device的约束层导致的?
多个元件可以自动排成interdigit，可能需要加cad layer 来识别和LVS check
结果形成了两种device