版图drc验证

小弟刚学画版图，第一次画完的drc验证出现了问题，求助啊
Minimum poly pattern density is 14%
Minimum M1 pattern density is 30%
Minimum M2 pattern density is 30%
这些怎么改才能符合设计规则
顺便求助一下
哪位大哥能给我一个简单的ADC原理图或版图啊
！ 感激不尽

怎么没有回的啊，别沉啊

金属和poly的密度，一般不用管的，现在大部分的工艺应该都支持密度不够

大哥，那我是不是就不用管了，只是警告不算错误

这个密度问题可以忽略，不用管的

小模块一般都会报这个问题的。放到整 个CHIP中就不能报这个错了。

在空白的地方添上这几层的dummy。
但是要看总密度，所以在cell里一般不管，最后总图再考虑。
还有，在论坛里要现成的ADC版图这种好事你就别想了，做为一个学生，还是踏实一点一步一步做起比较好。

谢了，

恩，多谢，主要是想要原理图，否则太麻烦了

麻烦请教一下，nmos跟nmos4在画版图时怎么区分。三管脚跟四管脚怎么整?
多谢了，自己学也不知道问谁。请教一下万分感谢。

没区别，NMOS是默认衬底接地。

忽略吧

这个可以忽略的，如果你放到whole chip上还有此问题就必须加dummy了

poly和金属密度问题，block可以忽略，但是full chip还是要把这个问题解决掉的，添加dummyfill

这个，没事的

回错了

密度问题如果是全芯片跑的画，最好是用calibre自动fill dummy。

you don't need to consider min density rule. minimum density rule meets final dummy layer addition step

在画单元模块中金属密度和poly密度可以不用管，总图跑DRC还出现密度问题时，可以加上dummy解决这个问题。

不用管，现在的工艺都能满足密度问题的，我在项目中也出现类型的情况

学习学习！

学习了

请问这是使用什么软件啊啊?

一般到whole chip上才會灑dummy，除非在比較care的電路才會在block灑

最后总图才会处理这个问题