28nm 不建议使用环形 U形 L形

群里有人熟悉28nm的工艺么，在此工艺下建议不使用环形，U形，L形的形状，不仅仅是对gate的要求，这是为啥呢，个人感觉可能会是机械应力方面的考虑，但是没有理论依据。而且这个rule在DRC中貌似不check的。有木有懂的人赐教啊

dfm的需求吧， 越到小尺寸越多

是考虑到poly density 和uniformity 的因素
规则形状在做etching时候，yield会更好

规则图形更好这在layout中是共识，环形，L形啥的在seal ring，guardring是非常普遍的啊，貌似28以上rule中都没有特别对此做过要求

DFM基于哪些考虑对此作出要求的呢，可以再具体再深入么

和poly density 有啥关系啊

除了机械应力，还有一个靠谱点的推测是基于进行光刻时的光线衍射的考虑

已经告诉你原因了，不要再做主观推测了
poly stress是靠d-cesl来调整，不过只有在40GP里面见过，28nm中没有提到这回事
至于光照是衍射问题，在28nm的design rule中规定的小于一定width poly必须是由固定的poly space，所以没有什么可以讨价还价的
在40nm工艺中，是要求poly space在某个区间内，是为了CDU control
应该仔细读几遍design rule

这个不是特别针对poly的要求。

虽然我没做过，但我赞同你的观点

看看，学习一下。

涨涨人气

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28nm、、、、、、、、、、、、

與良率有關
基本上沒得討價還價
等你做完ＦＩＮ製成，再回來看28nm
一整個究佛心來著。