关于dummy的问题，保持多晶硅蚀刻速率一致是什么意思？

这里所说的一致是指M1和M3外侧的多晶硅刻蚀速率与其内侧以及M2多晶硅的两侧相等。因为多晶硅的刻蚀速率与多晶硅的开口大小有关，如果不加dummy那么M1和M3外侧的多晶硅裸露在外，刻蚀速率会很快，而里面的多晶硅由于开口相对较小，会稍微慢些，这样就造成了最后刻蚀出来的多晶硅宽度，即晶体管长度不一致，M2会比M1和M3的稍微大点。导致了一定程度的失配。

多谢指点
不过还是有点迷糊，“开口”是说外侧的多晶接触到的刻蚀液体比较多么?

不是，开口是指除了多晶硅的区域，就是多晶硅的间隙或者是多晶硅以外的地方。

明白了，多谢指点。

也受教了，，

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学习了，呵呵

学习学习，明白了！

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主要还是刻蚀间距导致刻蚀速率不同，所以需要dummy来保证最外面的刻蚀速率与其它保持一致。

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受益匪浅

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