有源区的作用

AA: Active Area
SP: Selected P-Implant
SN: Selected N-Implant
AA is the area where the field oxide would not be grown~
AA+SP is the Source/Drain of a PMOS while AA+SN of a NMOS~

关于AA与SP、SN关系，简单一点说就是AA是来定义SP、SN区域的。AA与SN或SP区域的交集部分才是真正进行P+、N+注入的地方。
因为工艺注入上肯定会有误差，所以一般都要求SN、SP注入要超过AA多少um（看工艺而定了）。

AAActive area；它的另外一种叫法 更直白：TO即 thin oxide；TO 是相对 STI/ fox 而言的
SNSP 是 implant能量较低 穿不过 fox