TSMC工艺版图求助

刚学画版图，直接调用的TSMC库里的layout,画了一部分进行DRC检查，提示错误：
NWELLLi{@NWELLi shapes with acute angles between line segments are not allowed. OFFGRID NWELL 5 }
查了一下没找到原因，而且在 Create Multipart Path 工具中 ，MPP Template 后面的选项只有New 这一个，为什么呢?
在只放置一个PNOS管的情况下，同样出现上述问题，另外还提示下述问题：
ODi(@ODi shapes with acute angles between line segments are not allowed.OFFGRID OD 5}
POLYGi(@POLYGishapes with acute angles between line segments are not allowed.OFFGRID POLYGi 5}
PIMPi(@PIMPishapes with acute angles between line segments are not allowed.OFFGRID PIMPi 5}
还有这种错误就不一一写出来了，感觉是提示整个PMOS画的都有问题，但是那是库里的元件啊，
不知道哪位朋友见过类似的问题，如何解决?

DRC规则文件是从.../TSMC/pdk/Calibre/drc 中把Calibre文件考到自己的工程文件下，Rules file 选择的就是Calibre/drc中的calibre.drc
会不会是DRC规则文件本身的错误呢?求解。

看來是grid 不在 0.005um 的倍數

offgrid

1、感觉您在放置PMOS时，格点设置不正确，可从设计规则中查找相应的格点设置
2、 Multipart Path一般都是不存在的，需要自己建立 Multipart Path

acute angles=锐角
请不要在NWELL上画锐角，谢谢。

就是这个问题 谢谢

对的 为了移动方便，就把格点设置成了0.001，太小了，设置成0.005就好了。

真是恭喜了
通常design rule 會有最小grid,
按照其倍數來做就OK

斜线导致offgrid