请教深亚微米与100纳米的光刻技术？

光学光刻，用scanner，
电子束光刻，用e-beam direct writer
X射线光刻，用同步辐射X射线光刻机
纳米压印，用Imprinter
国内现状，工艺都掌握，设备材料全进口，国产设备开发中，X射线已经被抛弃。

国内的工艺水平可不怎么样？纳米级图形的光学光刻没有人真正做出东西来，EBL和XRL的工艺水平就一个字，烂！纳米亚印工艺不难，关键是模版谁能做出来，据我所知国内几家的模版都是在欧洲作的。

6年了，不知道现在国内EBL工艺水平怎么样了？应该提高不少了，可以媲美世界顶尖水平了吧。

实验的话，国内有几家有EBeam
生产的话，stepper。
不了解市场，好像国内就那么几家做，出条线条容易，但是大规模保证成品率和一致性难。

别听那哥们瞎扯，他自己不了解国内行情，EBL国内工艺一直不差，难的是设备和光刻胶，这两个方面倒真是毫无进展。
至于压印模板，纯粹是商业问题，和技术水平没半毛钱关系。中国的模板市场，一年的单子做完，还不够发工资的。