请问什么是反向光刻技术？

DFM，OPC 概念。在光刻机成像系统和fabless给的版图一定的情况下，为达到wafer 上图形和fabless 版图尽量一致的目的，试图用解函数的方式，通过软件计算出矫正的版图。前年这个公司的北京办事处和rockship在一栋楼。

原来有个硅谷的startup公司做的，不知道现在被收购了没。
Intel也做过，发过这方面的paper。
清华微电子所也有人做。
这个东西就是计算复杂度高，如何实现全芯片高速数据处理是关键。

哦，非常感谢