Re: die的面积有最大限制么？

有限制的，我起个头，别人来补充吧
1。现在主流的光刻机，每一个exposure field的最大限制是26*33mm。所以，这个基本上就是物理上的限制了
2。这个尺寸对应在光掩模上的话，就是乘以4之后，104*132。现在用的光掩模是150*150mm的，所以看到，加上一些图形区周围的标记和各种功能区的话，这个场区基本上是利用了光掩模的面积
3。从制造来说，die的面积越大，成品率越低。因为更有可能被一些关键缺陷来影响。这个也是die在做大之后必须面临的挑战
4。还有，die的面积越大，占用的光掩模面积越大，每曝光一次的效率也就越低，相对的产能也就越低，成本也就增加，这个也是要主要考虑的问题
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