20nm时代,FPGA或将拔得头筹
目前,台积电28nm良率大幅提升的利好还没被市场彻底消化,FPGA业界双雄已争先恐后地发布20nm FPGA战略规划,在性能、功耗、集成度等方面均大幅跃升,蚕食ASIC之势将愈演愈烈。在45nm工艺节点,大量ASIC厂商率先量产;而到了28nm工艺时代,率先量产的7家公司中已有两家是FPGA厂商;在20nm时代,FPGA或将拔得头筹。
超越简单工艺升级
FPGA向下一代工艺演进并不是"升级"那么简单,需要诸多创新技术应对挑战。
迈向更高工艺是市场驱动力所致。"目前无线通信、视频消费、汽车高级辅助驾驶、医疗电子、安防技术等应用给FPGA提出了巨大的需求,要满足如此快速增长的处理需求,必须实现高集成,而要实现高集成必须向高级工艺迁移,并以创新的思路来解决集成挑战。"赛灵思公司全球高级副总裁、亚太区执行总裁汤立人强调。因此,虽然28nm FPGA产品在今年才量产出货,但FPGA厂商却已先行一步向20nm发力,以满足市场对可编程逻辑呈指数级增长的需求。
向下一代工艺演进并不是"升级"那么简单,需要诸多创新技术应对挑战。在28nm工艺节点上,赛灵思率先推出了统All Programmable的7系列FPGA、嵌入ARM cortex-A9的FPGA SoC以及采用3D封装技术的Virtex-7 2000T,赛灵思20nm产品依然是三个产品系列并行发展,分别"进化"成8系列FPGA、第二代FPGA SoC和第二代3D封装FPGA。赛灵思20nm 8系列All Programmable FPGA将有更快的DSP、BRAM(Block RAM)、DDR4及收发器,有最高的带宽(100个33Gb/s收发器),可以实现更高的带宽总线和更快的设计收敛。与7系列产品相比,其性能提高了2倍,功耗降低了一半,集成度则提高了1.5~2倍。在FPGA SoC方面,赛灵思嵌入了ARM Cortex-A9双核处理器的28nm ZYNQ系列产品已经量产出货,"赛灵思20nm FPGA SoC将不但嵌入ARM处理器,也将嵌入其他处理单元,例如DSP、灵活混合信号(AMS)以及经验证的Video IP、算法等等,它还将采用AXI总线。"汤立人介绍说,"今后还有可能嵌入性能更高、更多的ARM核。"
FPGA另一重要供应商Altera在20nm工艺也导入了三项新技术。Altera高级副总裁、首席技术官Misha Burich介绍,Altera的20nm工艺FPGA一是可将芯片间的数据传输速度提高至40Gbps,而现行的28nm工艺FPGA为28Gbps。为了实现高速化,20nm工艺FPGA提高了收发器电路使用的晶体管性能,同时导入了根据在芯片间交换信号的波形来修正信号、改善信号干扰及衰减程度的电路技术。二是配备浮点运算性能达到5TFLOPS(每秒5万亿次浮点运算)以下的可变精度DSP模块。为了提高性能,将原来用软件实现的DSP部分运算处理改为了硬件操作。三是异构3D IC的应用。
3D IC技术加快发展
作为新技术,3D IC需要更好、更成熟的设计和测试工具才能被业界广泛接受。
在诸多创新中,最吸引眼球的是3D IC技术在同构之外,异构技术也将加快发展。"异构3D IC技术可将FPGA与以前外置的芯片集成在同一封装中,不仅可使芯片间的布线距离缩短,而且还可大大增加芯片间的布线根数,大幅提高芯片间的数据传输速度(系统性能),而因为芯片间布线距离缩短及接口布线电容减少等原因,能够降低系统功耗。"Misha Burich指出。
赛灵思的3D IC产品规划已从最初的同构系统发展到异构系统,如在28nm节点,赛灵思率先推出的virtex-7 200T是同构器件,后来推出的Virtex-7 H580T则是异构器件,在28nm工艺的FPGA上封装了45nm工艺的28Gbps收发器,现在赛灵思20nm 3D IC也将提供同构和异构两种配置。汤立人指出,20nm 3D IC不但有56Gbps收发器,还封装有更大容量的存储器,虽然封装难度加大,但赛灵思已经解决了很多难题,这将是一种全新的3D IC器件。
Altera的异构3D IC技术则通过创新的高速互联接口来集成FPGA和用户可定制HardCopy ASIC,或者集成包括存储器、第三方ASIC、光接口等在内的各种技术。同时,20nm混合系统架构在功耗管理方面继续创新,包括自适应电压调整、可编程功耗技术以及工艺技术优化等,使得Altera器件功耗比前一代降低了60%。
当然,3D IC技术看上去很美,但真正大规模使用还要解决诸多挑战。Mentor Graphics公司董事会主席兼CEO Wally Rhines曾表示,2.5D(SiP)技术目前仍然没有发挥到极致,2.5D IC的存在时间将比业界普遍预期的要更长一些。作为新技术,3D IC需要更好、更成熟的设计和测试工具才能被业界广泛接受。
设计工具与时俱进
设计工具针对20nm产品系列进行了进一步协同优化,将设计效率提高到新的层级。
正所谓"好马配好鞍",要让好器件发挥出最大效能也需要有更好的设计工具来支持。
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