面对EUV光刻技术，芯片制造商如何权衡复杂分类

产，则必须在流程中实施更多的掩模检查和清洁步骤。 "我们将做我们所做的与晶片印刷和晶圆检查，" GlobalFoundries 的莱文森说，"但是很痛苦。 所以，我们需要一个好的防护薄膜解决方案。" 

在研发方面，该行业正在研究下一代薄膜和面具基础设施的其他部分。 可以肯定的是，对于EUV抗议的发展也有紧迫感。 而且，当然还有电源。

这一切会实现吗？ 时间会告诉我们EUV光刻传奇。