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处理器史话 | 处理器厂商的绝密武器之工艺之争

时间:07-26 来源:3721RD 点击:

Pentium

0.80

Pentium 4

0.09

现在回顾一下前面的内容,Intel从第五代智能Core处理器的Broadwell开始,便使用了14nm工艺,至于这个尺寸可以持续多久,何时被突破,请大家拭目以待。

此外,每一款CPU在研发完毕时其内核架构就已经固定了,后期并不能对核心逻辑再作过大的修改。因此,随着频率的提升,它所产生的热量也随之提高,而更先进的蚀刻技术另一个重要优点就是可以减小晶体管间电阻,让CPU所需的电压降低,从而使驱动它们所需要的功率也大幅度减小。所以看到每一款新CPU核心,其电压较前一代产品都有相应降低,又由于很多因素的抵消,这种下降趋势并不明显。

通过前文,大家已经获悉:蚀刻这个过程是由光完成的,所以用于蚀刻的光的波长就是该技术提升的关键,下表为各光线的波长及对应的制程。

光的名称

波长(nm)

制程

氪/氟紫外线

248.9

0.18um和0.13um

氩/氟紫外线

193.0

90nm

超短紫外光

13.5

10nm

90nm的晶体管到底有多小呢,请看下图:


90nm的晶体管大小(左)与流行感冒病毒的大小(右)比较

3. Intel与其他芯片厂商在生产工艺上的PK
以上两点就是CPU制造工艺中的两个因素决定,也是基础的生产工艺,这里以两个CPU巨头的PK来进一步解释CPU的工艺之争。

1) Intel与AMD在0.25微米制程上的PK
Intel是全球制造技术最先进且拥有工厂最多的公司,Intel有10家以上的工厂做CPU,它掌握的技术也相当多。

AMD和Intel相比则是一家小公司,加上新工厂Fab36,它有3家左右的CPU制造工厂。同时AMD没有能力自己研发很多新技术,它主要是通过战略合作关系获取技术。

AMD和Intel在技术上处于同一水平,不过在向0.18微米转移时落在了后面。在感觉无法独自赶上Intel之后,AMD和摩托罗拉建立了战略合作伙伴关系。摩托罗拉拥有很多先进的电子制造技术,用于Apple电脑PowerPC的芯片HiPerMOS7(HiP7)就是他们完成的;AMD在获得授权后一下子就拥有了很多新技术,其中部分技术甚至比Intel的0.13微米技术还要好。

现在AMD选择了IBM来共同开发65纳米和45纳米制造技术。它选择的这些都是相当有前景的合作伙伴,特别是IBM,一直作为业界的技术领袖,它是第一个使用铜互连、第一个使用低K值介电物质、第一个使用SOI等技术的公司。AMD获得的大多数技术很先进,而且对生产设备的要求不高,生产成本控制的很低,这也是AMD的优势。

AMD的新工厂Fab36中采用的APM 3.0 (Automated Precision Manufacturing)技术,可进一步实现制造的自动化,效率化。同时AMD还建造了自己的无尘实验室。
至于PK的结果,不言自明。

2) 在金属互连层上PK
回顾在芯片的制作流程中的"重复、分层",知道了不同CPU的内部互连层数是不同的。这和厂商的设计是有关的,但它也可以间接说明CPU制造工艺的水平。

在这项设计方面,Intel在这方面已经落后了:

当他们在0.13微米制程上使用6层技术时,其他厂商已经使用7层技术了; 当Intel准备好使用7层时,IBM已经开始了8层技术; 当Intel在Prescott中引人7层带有Low k绝缘层的铜连接时,AMD已经用上9层技术了。 更多的互连层可以在生产上亿个晶体管的CPU(比如Prescott)时提供更高的灵活性。下图为7层金属铜互连技术显微图片:


7层金属铜互连技术显微图片

为什么要强调这个金属互连层呢?

因为在芯片的加工过程,当晶体管的尺寸不断减小而处理器上集成的晶体管又越来越多,连接这些晶体管的金属线路就更加重要了。特别是金属线路的容量直接影响信息传送的速度。

在90纳米制程上,Intel推出了新的绝缘含碳的二氧化硅来取代氟化硅酸盐玻璃,并同时表示这可以增加18%的内部互连效率。

直到此时,在这一轮的PK中,Intel总算找回来一些面子。

原创,谢绝转载!

系列汇总:

之一:第一款处理器之谜

之二:处理器的春秋战国时代:8位处理器的恩怨与纷争(上)

之三:处理器的春秋战国时代:8位处理器的恩怨与纷争(下)

之四:处理器的三国时代:苹果搅动MCU江湖

之五:处理器的三国时代:DR公司盛气凌人,IBM转身成就微软

之六:32位处理器的攻"芯"计:英特尔如何称霸PC江湖?

之七:AMD称霸PC处理器市场的"昙花一现"

之八:CPU两大阵营对擂,X86构架让英特尔如日中天

之九:你知道X86构架,

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