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40nm

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
40nm工艺,两种环境 1:0.99v -40度2:0.99v125度。为什么第一种工作环境比第二种工作环境还worst的呀?不是电压越低,温度越高,环境最差吗?

温度反型了吧? 越冷越慢

本来是温度越低,速度越慢的,但深亚微米下温度反转效应是说, -40度时比-0度时要快。
你写的电压也不对吧,wc电压应该是0.81v (90%标准电压)

质疑楼上,应该是这样子吧:
传统工艺=> 低温快
先进工艺有温度反型=> 低温慢。

抱歉确实说错了,40nm以前的工艺是温度高速度慢的。40nm及以下的是在-40度更慢,但我印象中温度曲线不是完全反转。
还有电压刚看了一下tsmc两种工艺:
40G: 标准0.9v, wc:0.81v
40LP:标准1.1v, wc:0.99v
所以小编应该用的是40LP的工艺。

小编,40nm的PT分析时,set_noise_margin一般设置为电源的多少百分比呀?要分析noise.

应该有noise 库,不能用margin 了吧。

同步信号40%,时钟和异步信号20%

对,有noise库更好

好的,谢谢。
还有个问题,在PT userguide里说 28nm时,delay_calc_waveform_analysis_mode需要设置,
说是由于tail effort和miller effect影响delay calculate。28nm不设置这个 参数的话延时计算就会不准确,但我man了下这个指令,又说这个指令在下个版本中会废弃掉。不知道什么意思。请大侠指教。但一旦设置这个参数后,transition就会变得很差。不知道小编在用28nm及更先进的工艺时,这个参数要设置不?谢啦



如果不设置set_noise_margin,PT默认的margin是40%电源电压,我有noise库,但怎么来设置让PT用noise库来判断是否有noise冲突呢,不设set_noise_margin的话是40%电源电压,设set_noise_margin的话是用设置的这个值。用什么指令来设置让PT用noise库来分析呢,看ug看了半天也没找到,非常感谢!

i need to know

关于温度反型有没有更详细的介绍?

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