关于filler cell with metal区分
1) 看了论坛中关于谈到的一些fill cell，不知道filler cell with metal是指有金属层1或金属层2等，
反正只要有金属层就是filler cell with metal这么说对吧?
2) 如果库中filler cell都是有金属的filler cell，那需不需要做insert_stdcell_filler -cell_without_metal?
为什么lab上要第一步先填充有金属的cell，然后在做没有金属的cell填充，第二步又有什么意义呢?
3) decap cell是哪个库中的单元，我在标准单元库和IO库都没有发现以类似于decap命名的单元?
谢谢！
1〉通常都是metal1，很少听说metal2的
2〉有需要填充nwell和imp的filler
3〉FILLCAP?
谢谢小编！
第二点我还不是很理解，filler cell with metal也可以填充nwell啊，弱弱地问一下imp是什么，p+注入?
不是FILLCAP，FILLCAP在lab上说是有金属的filler cell。我发现我的IO库里没有filler cell without metal，还需要做insert_stdcell_filler -cell_without_metal吗?
decap我是从论坛上看到的 http://bbs.eetop.cn/viewthread.php?tid=316859&highlight=decap，不知道decap filler cell来自哪里?
建议你打开layout看一下filler和fillcap的结构。
我发现我的标准单元库中没有提供filler cell without metal的，请问可以把fillcap转成fill（具体做法只删除fillcap中的metal1）?
我不知道你的是什么process你可以看一下stdcell lib. 的datasheet，它会有介绍的
databook上给的fill<n>我都看过版图了，都有metal，那该怎么办?
能给截个图瞅瞅不?
从databook截下来的图，关于fill cells只有这一点而已
databook上给的fill<n>我都看过版图了，都有metal，那该怎么办?
FILL也有metal，那是连接P/G rail的，和ICC中的with metal不是一个意思
谢谢小编，请问ICC中的with metal又有什么作用，不是连接P/G rail?
小编现在理清楚了没呢?
您是不是用的是chartered的库呢，感觉我的情况和你一样，没找到fillercap，然后filler在lib里面看起来都是有metal的。是这样看有没有金属没错吧，lef文件里面的。
MACRO FILL2
CLASS CORE ;
FOREIGN FILL2 0.000 0.000;
ORIGIN 0.000 0.000 ;
SIZE 1.320 BY 5.040 ;
SYMMETRY x y ;
SITE csm18site ;
PIN VSS
DIRECTION INOUT ;
USE ground ;
SHAPE ABUTMENT ;
PORT
LAYER METAL1 ;
RECT0.000 -0.400 1.320 0.400 ;
END
END VSS
如果filler有金属和ICC里面的with_filler不是同一个意思，那在添加的时候要选择那个选项呢?
听说fillercap是带金属的，filler是不带金属的。那意思是如果现在要添加filler的话要选择-without_metal_cell?
其实很简单，如果是fillcap的话，它是存在mos管的，用来当作cap用，既然是mos管，那它肯定最起码要有metal1来连接的。所以这类filler是with metal的。
如果是单纯的filler单元，它是起到填充well和imp的作用的，所以，它的结构中并没有实际的mos管存在，因而也不涉及到metal部分。所以针对了without metal的。
当然，所有的stdcells（metro工艺除外）本身都会有涉及到vdd vss的部分，这部分是需要有metal的。但这部分不作为option的指代内容。
如果有其它的工艺文件，你可以找到对应的stdcell的版图打开看看，一目了然。