process pitch（间距）修改的疑问

我们之前使用某foundry 180nm 工艺，2P6M的设计规则，工艺文件中的pitch定义如下：
M1 pitch 0.56u
M2 pitch 0.56u
M3 pitch 0.56u
M4 pitch 0.56u
M5 pitch 0.56u （tech lef：1.12u）
M6 pitch 0.95u （tech lef: 1.12u）
但是我们工具读入的规则，M2 pitch为0.66u，M4 pitch为0.66u , 读入后发现 某些cell，产生了drc问题，具体是相邻的pin由M1跳到M2的时候，在M2间距 < 0.66u；
所以我们打算对工具读入的规则中的pitch进行更改：M2 0.66u --> 0.56u
M40.66u --> 0.56u
M50.56u --> 1.12u
M60.95u --> 1.12u
不知道这种更改可不可行呢?会不会影响寄生参数提取?

请问这个问题后来怎么样了啊?
pitch修改后对寄生参数跟drc影响大吗

实际pitch还是按照 foundry的工艺文件修改的；已经投片生产，目前没发现什么问题