微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 微电子和IC设计 > IC后端设计交流 > 关于LEF库文件的pitch的问题

关于LEF库文件的pitch的问题

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
看了LEF的文件中,其中每个金属层都有自己的pitch值(最小布线间距),请问这个值是怎么得来的?是不是就是特征尺寸或者是特征尺寸的倍数?比如说一个90nm的工艺库文件其LEF库文件中的铺pitch是不是就是45nm?请高手指点

width+space

Thanks~,刚刚找到了一个文档看了看~

不明白

thx!

metal to metal, metal to via , via to via

ooooooooooooo!

哦,看工艺文件就明白了

嗯,同上,应该是根据design rule 来确定的

pitch是金属走线最小宽度,等于minwidth+minspace

pitch是2个wire中心距,缺省等于 = min width + min spacing

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top