微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 微电子和IC设计 > IC后端设计交流 > 加IO filler 出现的violation

加IO filler 出现的violation

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
在encounter里面加IO filler 之后会报很多的Geometry error,都是overlap 或者short的,

,我加IO FILLER的命令是这样的

,IO FILL加完后

,这种怎么fix掉,整个设计做DRC的时候,反而没有error。

检查下lef中设计格点,和最小的fill的大小比较一下,看有差别没

不用看,这个是属于overlapped io filler,在layout上是确实存在和允许的,
请做calibredrc,lvs吧, 没问题就行了

DRC 的时候到没这些问题,很奇怪实验室之前他们做的时候用的是相同的文件,相同的filler,均没有产生这些violation。

你可以试试看,可能是你最小的iofiller 选中了-fillAynGap。
但是这样问题是允许的,我也有遇到
我的建议是保留-fillAnyGap

PAD filler是容许overlap的,-overlap_cell选项选择最小的io filler

为什么我的encounter中没有找到addIoFiller的menu呢,我用的是encounter5.2,这个版本怎么添加IO FILLER 额?

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top