微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 微电子和IC设计 > IC后端设计交流 > lib(corner)和sta

lib(corner)和sta

时间:10-02 整理:3721RD 点击:

tsmc提供了7个lib文件,分别是:(160nm工艺)
tt
ff1.1vdd.0
ss 0.9vdd.125
ff1.1vdd.-40
ss 0.9vdd.-40
ff1.1vdd125
ss 0.9vdd0
问题:
做sta时用什么模式bcwc。ocv 还是mmmc?或者说选择sta的模式跟什么有关呢?是设计要求还是工艺制程还是二者综合考虑。

谁给说说

.16 应该是.18的shrink, 不用考虑ocv了,wc 、bc 就够了

谢谢!
如果是bcwc就够了,那具体ss和ff选哪个条件呢?

ff1.1vdd.0
ss 0.9vdd.125
就可以了,
有时间的话 lt 也做一下吧
ff1.1vdd.-40

谢谢!

按照TSMC的sign off corner的规定做

哦?去查查tsmc的signoff的corner,谢谢!

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top