多少纳米以下需要考虑栅对齐？IP不能90翻转？

TSMC是28开始有这个要求

学习了

学习了！谢谢！

栅对齐是否是栅方向的一致性?
工艺越是精细化，约束越是苛刻，很多模拟后端的技巧就会被嫁接过来，对栅的一致性、filler cell的选取，等等都有很高的要求，不然会影响刻蚀效果和管子性能；

要求这么多，苦了这些设计师啊！