较宽的金属层次刻蚀问题

某些0.6的工艺会存在这样一个版图设计规则同一层金属，如果金属宽度小于10um，那么金属之间的最小间距为0.8um
如果金属宽度大于10um，那么金属之间的最小间距为1.5um
然而某些0.6的工艺就不会存在这样一个版图设计规则

个人认为无论金属宽度为多少，其面对的光刻条件（光刻胶厚度，曝光时间、刻蚀时间）都是一样的，金属刻蚀是刻蚀氧化层，个人认为与负载效应关系不大，因此请教各位大神，这是由于什么问题导致的?

金属刻蚀，刻蚀的是金属本身。
这个规则主要是过刻蚀有关吧，宽度小的金属之间，或者间距比较大的金属之间，过刻蚀比较大，而宽度大的金属之间过刻蚀小，所以宽度大的金属之间如果间距小了，容易出现刻蚀不净，造成金属相连。

1、金属刻蚀，刻蚀的是金属本身。我想表达的意思是金属为反版，刻蚀区域为不需要的区域，因此这样的情况就会与负载效应表达的含义无关，不好意思
2、这个规则主要是过刻蚀有关吧，宽度小的金属之间，或者间距比较大的金属之间，过刻蚀比较大，而宽度大的金属之间过刻蚀小，所以宽度大的金属之间如果间距小了，容易出现刻蚀不净，造成金属相连
过刻蚀的问题实际上就是刻蚀时间问题，完全可以忽略各向异性的小偏差，如果考虑到终点检测，这个问题是可以避免的。
现在的问题是，有很多工艺线存在这条宽铝规则，也有相当一部分工艺线不存在这条规则，因此我浅显的认为应该是机器上的问题，只是不知道是哪一个步骤会导致该问题的发生

製程能力 , 同樣做 IC

（光刻胶厚度，曝光时间、刻蚀时间） 可調整
金属刻蚀是刻蚀氧化层 ,事實上
是先刻蚀氧化层, 再刻蚀金属
有好幾個步驟
看製程能力 , 也考慮 良率