扩散和离子注入的不同？

扩散是利用参杂离子的自由扩散，同时存在纵向和横向的扩散，扩散的时间越长，参杂的深度和宽度都增加；但在小尺寸工艺中，要求有必要的参杂深度，同时希望很小的横向间距，这时候扩散就很难做到。
离子注入是精确控制的，注入离子的种类、注入深度都可以精确控制，同时几乎没有横向扩散，是小尺寸工的主流工艺。
在大尺寸工艺，nwell和source/drain都可以用扩散来做；小尺寸工艺，nwell/SD都用离子注入来做；而中等尺寸，出于成本考虑，用扩散来做nwell，离子注入来做SD

明白了；谢谢你的讲解！

学习了

說得好

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说的很对

那从什么工艺节点开始是用离子注入呢?扩散是在小工艺的时候就不用了吗?还是某一些步骤还在用扩散?

学习了