新手求教,请问NP、N+active、Ndiff和active的区别?
时间:10-02
整理:3721RD
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我是新手,最近在看HHNECbcd350ge工艺文档,请问NP、N+active、Ndiff和active的区别?这几个概念有点模糊。
NP 又名 NIMP NPLUS
active 又名 diff
N+active 通常是 NDIFF
就是代表 NP 包住 active
先解释active,我觉得这个概念很重要也不大好理解。
active:我个人理解,active算是一个标识层,比如版图上你要一个5*5的N型区,那么一般都是Active为5*5,包在active外的NP或N阱是大于等于5*5的。怎么理解呢?我觉得可能跟工艺误差有关,我们画一个5*5的NP圈,在工艺上可能没得5*5,所以一般用active来表示实际注入出来的面积大小,它只是起一个标识的作用,实际注入大小还是以NP面积为准。只是用active来确保能得到我们想要的足够的注入面积。工艺上基本上都要求注入或阱必须超出有源区边界多少距离的。
NP就是N+ implant :N型离子注入
N+Active:Active是有源区,N+Acitve是N型有源区(N注入和有源区的交集区)
Ndiff:N型扩散
纯属个人理解,如有不当或错误,欢迎指正。
请教下,active不就是diff吗?这层实际作用是什么呢?
我上面解释了的啊。
学习了
刚学版图也没想明白。
ative是开窗用的,开了窗之后才能进行注入。n ative是指n型注入p ative指p型注入