请问布局布线阶段的产生的 track 具体是干什么的

小弟正在看 SOC Encounter 或者是 Innovus 环境下生成物理layout的流程，有很多疑问：首先就是这个track generation，我理解为是为了之后的routing做准备的虚拟path，也就是说工具只能在有track的地方布线。所以显然track发生在routing 之前。
那么track generation 和 placement的关系是什么? (弱弱地问一下placement是不是指的就是把standard cell 排成一排排的?)
一排排的Cell可以叫做 Row 吗?（我记得有create row这种命令，虽然不知道是什么意思）
两排Cell之间是否有间隔呢? 如果有这个间隔叫什么呢（是channel吗）? 还有track在这里是什么样子，是必须躲着 “cell排” 即在间隙里generate，还是说track其实可以在“Cell排” 上随意行走?
这些问题都是关于概念，由于我学的不好，没有理清楚，所以就拧在一起问了。

那么track generation 和 placement的关系是什么?

> Placement时需要考虑macro的pin是否on track;

placement是不是指的就是把standard cell排成一排排的?

>Placement 是考虑timing尽量满足的情况将standardcell摆放在合适row的合适位置上，同一行row上的cell不一定会一个挨着一个摆满一排的。如果同一row中的两个cell有空档的话，最后会在空档区域填上filler cell的

一排排的Cell可以叫做 Row 吗?（我记得有create row这种命令，虽然不知道是什么意思）

>所看到的一排排的就是row, createrow也是用来创建row的。但要注意standard cell有single height和double height的，两者需要不同的row

两排Cell之间是否有间隔呢?如果有这个间隔叫什么呢（是channel吗）?

>现在两排cell之间通常没有间隔，相邻两排的cell通常是背靠背的，也就是会共vdd或者vss

还有track在这里是什么样子，是必须躲着 “cell排” 即在间隙里generate，还是说track其实可以在“Cell排” 上随意行走?

>track时指metal track，不同的metallayer有不同的track pitch，也有不同的方向。例如M1是horizontal方向，M2就是vertical方向，而M3又是horizontal方向了。Cell的高度通常用metal2 track pith来表示，例如9T standard cell库。

总之，我还是建议你看看workshop pdf吧，看图就能把这些基本概念一目了然的

多谢大侠指教，真是受益匪浅。
您说的材料是这个吗 Encounter Digital Implementation (EDI) System 13.1 Tutorial for Beginners - Workshop Lab 1
我感觉里面讲track的部分很少啊，请问大侠能不能提供个阅读材料：）

Thanks.

   为什么cell的高度用的是metal 2 pitch来衡量阿，为什么不是用metal 1 pitch呢?