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CMOS PA陷入成本和性能两难,“单芯片手机”梦受阻

时间:06-27 来源:RD3721 点击:

        在WLAN应用中BiCMOS功放已逐渐开始取代砷化镓功放,而LTE、WiMAX和WLAN应用相似,它们都使用了正交频分复用(OFDM)技术。高国洪表示:“在4G手机和移动设备中,鉴于硅锗BiCMOS 是一种广泛可用的制造工艺,而目前又在WLAN领域拥有强大的主导地位,所以在手机功放和前端模块产品领域中,硅技术最终将取代GaAs似乎已是大势所趋。”当然他强调,手机中GaAs PA最合逻辑的取代方法是转向硅基技术,而非特定硅CMOS。因为以硅锗BiCMOS为首的硅BiCMOS,具有CMOS的所有成本优势和作为GaAs工艺核心的异质结双极型晶体管(HBT)的性能优点。

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