WCSP 在克服各种挑战的同时不断发展
晶圆芯片级封装 (WCSP) 去掉了许多传统的封装步骤,例如:裸片焊接、引线接合以及芯片级倒装片 (flip chip) 连接工艺等。这种方法使半导体客户加速了产品上市进程。WCSP 应用正扩展到一些新领域,并逐渐出现基于引脚数量和器件类型的细分市场。集成无源分立RF 和存储器件的WCSP 应用也正扩展到逻辑IC 和MEMS。但是这种发展也带来了许多挑战,包括裸片尺寸和引脚数的增长对板级可靠性所产生的影响。本文将介绍我们当前面临的诸多挑战,以及集成化和硅过孔 (TSV) 技术等一些未来发展趋势。
晶圆芯片级封装具有各种裸片尺寸、焊球间距和封装厚度,这些都是WCSP 的所有关键实现因素。 |
WCSP 在过去十年获得了长足的发展,已成为主要尺寸封装之一。WCSP 专业技术公司已经从一些小公司发展成为大型封装分包商,以及一些拥有 150mm、200mm 和 300mm 制造能力(制造能力和赶超能力需求迅速增长)的大型集成器件厂商。由于早期的一些用户集成了无源器件和分立器件,使应用空间也获得了相当大的增长。
由于 WCSP 已经发展成熟,大型裸片和器件类型变得多样化。在整个发展过程中,始终保留着一个关键属性:在不使用倒装片底层填充 (underfill) 的情况下获得可靠性(限制裸片尺寸)。
焊球间距始终主要为 0.5mm,而大批量生产时仍为 0.4mm。0.3mm 的凸焊能力已得到证明,但其采用受到安装表面贴装技术 (SMT) 工具集功能、基板成本以及倒装片底层填充潜在需求的阻碍。
材料组合以及对工艺条件的理解能力都已得到提高。这些反过来又支持更高的可靠性,以及敏感器件更低的固化温度,例如:存储器等。
为什么采用WCSP?
WCSP 具有许多优点,包括封装尺寸缩小、更低的成本、更高的电气性能以及比传统封装相对简单的结构等。相比倒装片板上组件,WCSP 器件一般不要求倒装片底层填充。实际上,已经得到证明的是:0.4mm 最小焊球间距和 126 引脚数的 WCSP 器件并不需要使用倒装片底层填充来满足板级可靠性要求。随着 WCSP 尺寸和引脚数的不断增加,这一优点也受到了挑战,但如果使用了正确的协同设计策略这种优点仍然可以保留。由于 WCSP向 0.3mm 焊球间距转移,很可能会要求使用倒装片底层填充来确保满足板级可靠性要求。尽管拥有很多优势,但也存在众多挑战——最明显的便是可靠性和设计挑战。
挑战
相当多的研究已经帮助克服了这些挑战,而 WCSP 封装已在许多新的器件类型和应用得到应用。除可靠性和设计挑战以外,其他主要的挑战还包括测试和晶圆处理。未来的一些机遇(包括 3D/TSV)将带来更多的挑战,从而需要创新型解决方案。
板级可靠性。一般而言,板级可靠性 (BLR) 测试包括温度周期变化、压降测试和弯曲测试。但是了解对组件应用可靠性的影响也很重要,包括使用实例和贴装结构(贴装至印刷线路板 (PWB) 层压板模块还是陶瓷模块)。焊盘过孔和非焊盘过孔混合结构使用的一些模块应用在获得 BLR 方面最为困难。但是,我们可以使用一些协同设计策略来提高 BLR 性能,包括层叠结构、智能焊球数量减少以及独特的重新分布层 (RDL) 设计。
由于移动设备厂商压低其印刷电路板 (PCB) 上无源组件的高度,半导体供应商也同步降低了封装高度。结果,随着焊料基准距的减小,板级温度周期性能也被降低,因为硅和 PCB 材料之间热膨胀的错配系数。在低引脚数模拟器件中,例如:音频放大器等,这些整体应力并不是一个大问题。但是,随着器件功能增加以及更多组件集成到同一块硅片中,最远焊球 DNP(到中性点的距离)会更大,从而增加 BLR 风险。
新一代 WCSP 将侧重于封装的掩模组减少。掩模减少,可以实现更短的产品上市时间和更低的封装成本。但是,必须要在不牺牲电迁移和 BLR 的情况下实现这种转变。在 WCSP 中,我们习惯上认为最必需的一层是凸块底部金属层,其会减缓焊料中锡和 RDL 之间的反应。进一步来说,扩散阻隔层将会与重分布层混合,从而除去 UBM 层。
图1晶圆制造厂 RDL(直接位于硅铝焊盘上的凸块) |
设计。WCSP 供应商在从焊盘到区域阵列范围 (area array pattern) 的什么地方构建布线所需的 RDL 存在争议。晶圆加工厂方法(请参见图1)中,通常将一个额外增加的铝层用于这种连接。这种方法的缺点是凸块支持会占用很多的顶层金属面积。
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