28nm tech lef 中的metal route 方向

请问各位大侠：
如题！
发现28nm的 PR route lef 中的metal 方向，在M1 的时候是垂直的，M2 是水平的。
但是在55nm or 大工艺节点的process， 这个M1 的走线方向都是水平的，M2 是垂直的。
所以想问28nm的这个metal 走线方向是出于什么目的这样做?
另外28nm process 和55nm的process 在PR flow上有哪些具体的差别? 谢谢！

麻烦问下你，是用encounter做的是么，这个tsmc28，LEF文件是在哪找到，我在PDK里硬是没有找到，晕~！

没做过28nm，但是做过40nm，我猜是因为std cell内部就用到M2了，而且M2是横着走线的，导致M2绕线就必须是水平方向，M3绕线就必须是垂直方向了。

这个不是一定的，28nm的库本身就提供VHV和HVH两种，看你自己怎么选择。