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求概念扫盲——PVT

时间:10-02 整理:3721RD 点击:

我们常说的PVT中的P,也就是process,具体是什么意思?
我只知道有ss,tt,ff,fs,sf这些corner,但是具体成数值又是什么含义呢?
比如DC的report_lib报告中
Process :1.20
这个1.20是什么概念?
求解答

我只是知道ss:slowtt:tipicalff:fast

自己顶,顶到有人解答为止

P-Process V-Voltage T-Temperature
在这里,可以理解成PVT variations.
ss- slow NMOS slow PMOS
tt - typical typical
ff - fast fast
fs - fast slow
sf - slow fast
report_lib出现的 Process :1.20是 Process variation 是1.2倍的意思(nominal是1). 会增加延迟.

谢谢解答,也就是说process的数值越大,就会导致器件的延迟越大?
可是我还是有些不解。有两个问题:
1.这个延迟增大是pmos和nmos同时增大么?(因为我们知道这两种器件速度变化条件并不一致,所以才会有sf和fs之分)
2.还是关于process这个基本概念,比如说voltage,我能形象的知道它是什么意思。可是对process,还是很模糊啊。

Process variation 是1.2倍的意思(nominal是1).
那么lib中描述的各种信息是before variation还是after variation?
难道这个1.2单单是描述lib中delay信息的?lib中其它信息呢?比如cap, noise?

要沉,再顶上去

要沉,再顶上去。

好东西,不错

Process variation 好像应该指的是阈值电压和沟道长度的变化

还请高手详细解答

等高手

基础不好,多看书。推荐CMOS VLSI 4TH EDITION

ff ,ss , tt……都有两个字母,分别代表NMOS,PMOS个人愚见!

P代表工艺偏差,基本上在具体的应用中这个值都是“1”
让工具在分析过程中将工艺条件考虑进去

process 主要是加工工艺之间的差异,如length 0.18um,加工有可能是0.17um ,有可能是0.188um,
还mos的参杂浓度影响vth,这些是process的变化,都能影响mos的驱动能力也就速度。

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#我们常说的PVT中的P,也就是process,具体是什么意思?
#我只知道有ss,tt,ff,fs,sf这些corner,但是具体成数值又是什么含义呢?
#比如DC的report_lib报告中
#Process :1.20
#这个1.20是什么概念?
#求解答
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就我个人所知补充点,不一定能全部回答,希望能有所帮助。
所谓三种process modules:slow, fast modules和typical process modules是半导体foundry为了digital design而提供的。前两种代表了一个foundry在制造工艺中的extreme corners。对于一个robust设计,在制造工艺的extreme corners也要有效,同时在环境极度的情况下(温度,电压)。delay与process关系如下图所示。
Process变量是什么呢?
不像温度,电压这些物理量,process不是一个可以计量的量。它是为了达到数字化特性描述和验证的目的slow, typical或fast process中的一个。
What is the Process Variable?
Unlike temperate and voltage which are physical quantities, the process is not a quantifiable quantity. It is likely to be one of slow, typical or fast processes for the purposes of digital characterization and verification.
说白点就是为了数字设计的直观化,量化一个实际上不是物理量的量。



delay vs process
好了,到这里我们该引出process变量1.0(或别的值)mean。
我们知道library characterization (char. for short)是一个十分耗时的过程,为了各种process corners去char. library能花费几周时间!这个process变量的设置让一个library在一个specific process corner去char.,这个specific process corner可以用来timing计算别的process corner,相当于一个标准。k-factors用来derate from已经char.的process to target process的delay。使用derating factors来描述timing cal.期间的inaccuracy。Derating across conditions是极其不精确的,几乎不用。
To summarize, the only function of specifying different process (say 1.0 or any other) is to allow derating across conditions which is rarely (if ever) employed.
例:假设一个library is char. 在1.08V,125C,slow process model。 如果delay是在1.14V, 100C,slow process model下的cell rise delay是多少?
解:这样计算
根据公式:Result with derating = Original_value × ( 1 + k_process × delta_process + k_volt × delta_volt + k_temp × delta_temp)
Derate_delay = Library_delay × (1 + k_volt_cell_rise × 0.06 - k_temp_cell_rise × 25) = Library_delay × 0.9448
这说明derated condition下会得到大概original delay的94.48%。

学习了一下新的知识……受益了

学习啦,thx for share

process是指Vt的变化
V是指工作电压的变化,比如1.2V+/-10%
T是低温,常温,高温。

学习了

顶起来,别沉下去

学习了

ouyuforever 是正解

学习中,谢谢分享

和K factor 有关吗

要顶起来啊,不要沉了,同问

学习了,赞

一直挺有疑问,今天终于算是理解了。

受教了

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