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后端面试--每日一题(001)

时间:10-02 整理:3721RD 点击:

好久没有被面试了,最近因为工作变动的原因,不得不再熟悉一下那些经典的后端面试问题,顺便拿来同大家分享。
为了便于讨论,以每日一题的方式发贴,问题有难有易,欢迎同行们就同一个问题的各种情况做深入的讨论。
如果把所有这些问题都搞懂了,估计就该轮到面试官头大了。
以下三个是最经常被问到的,基本上属于介绍性的题目,无所谓正确答案,在我看来,这些不算真正的问题。
  • Discuss about the projects worked in the previous company.
    介绍一下你在公司里做过的项目
  • What are physical design flows, various activities you are involved?
    介绍一下你们的后端流程(假设是从gate level netlist开始的),你负责哪一部分?
  • Design complexity, capacity, frequency, process technologies, block size you handled.
    芯片的工艺,面积,standard cell 的gate count,FF的个数,memory macro的个数,时钟频率,时钟个数,是hierarchy还是flatten flow,
    如果是flatten flow,分成几个block

下面是第一个真正的问题:
Why power stripes routed in the top metal layers?
为什么电源走线选用最上面的金属层?
难度:1
难度指数:
1:常识--无论是否有工作经验,都应该准确回答
2:简单--只要做过一点后端的设计,就应该明白
3:一般--有实际工作经验一年左右,做过2个以上真正的设计,应该可以答上来
4:较难--在这个特定的领域有较多的研究,并积累了一定的经验
5:很难--基本上是专家级的牛人了!

如何做Floorplan?如果我发现我摆的一个Floorplan有很多Routing的DRC,你会如何解决。假如这个Design的Utilization只有60%左右。

因为顶层金属通常比较厚,可以通过较大的电流

回答正确,不过换一种说法可能会更好。

高人啊

减少寄生电容的影响,减少串扰的影响!

1.高层更适合global routing.低层使用率比较高,用来做power的话会占用一些有用的资源,
比如std cell 通常是m1 Pin 。
2. EM能力不一样,一般顶层是低层的2~3倍。更适合电源布线。
3.一般ip占用的层次都靠近下几层,如果上层没有被禁止routing的话,top layer 可以穿越,低层是不可能的,并且高层对下层的noise影响也小很多。

回答到楼上的程度,面试一定会被加分的

谢谢,得到陈老大的嘉奖实是荣幸,
我是看着陈小编的帖子成长的,至今怀念edacn的版面。
我是您的粉丝。

IR drop 小!

每天坚持看一定会很大收获

看完之后很有启发,虽然有段时间没做后端了。

支持7楼

Top Metal的rule一般都比较大,用来跑信号线(其他metal层跑P/G)跑不了几条,比较浪费。
可不可算一个原因呢。

紧跟陈老师步伐,一天一题

感谢啊,感谢,刚刚学

为什么标准单元的电源线都是M1的,而不是高层金属?encounter里面special route时候的电源线就是M1啊。

circuit夹在电源和地之间,就像三明治,电源和地是否可以看作是平板电容的两级?

这个帖子真的很好可惜今天才看到

还有一个, 顶层金属离 bonding点最近。

問題是拿top來當power的話,假如是p&r,那麼假如top是8,那麼不就從8打via到1,那麼不就擋住很多route 的面積?

如果有8层金属,一般只拉pg拉到 m4或者m5

所以說APR 不能說一定拿top來拉power

必须顶一下

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