关于ICC生成的端口
时间:10-02
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ICC之后,得到的GDS,导入进cadence,为何所有的端口的lable都是在lable所打在的金属层,而非该金属层对应的txt层;另外,电源和地在candence中没有打lable。
各位有没有遇到类似的问题?
如果直接用v2lvs产生的cdl和ICC生成的GDS(不经过candence改lable所在的层)做LVS,这样不是会报错么?
各位有没有遇到类似的问题?
如果直接用v2lvs产生的cdl和ICC生成的GDS(不经过candence改lable所在的层)做LVS,这样不是会报错么?
set_write_stream_options -map_layer
实在不行 需要在icc里面create_text ,
tsmc的gds一般都是这么处理的,
tsmc的话,可以改rule,把metal layer也attach成对应的text layer。