IR-drop静态分析和动态分析的RC corner

请问，进行IR-drop分析时，静态分析和动态分析是不是要设不同的RC corner。看到某foundry 65nm的sign-off说明要求用动态分析+cworst进行IR-drop sign-off ，因此怀疑静态分析是不是应该用rcworst corner?请高人指点，谢谢。

用typical corner或者ff corner ，

小编指的是参数抽取时候是用C,还是RC