calibre lvs碰到的一个问题

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上图为tieh/l cell的版图，单独做lvs的时候都pass；现在做整个chip 的lvs，左边那个过了，右边的没过，请大家帮我分析一下是怎么回事。
那个npoly和ppoly相叠加的部分，extract了个net 3，lvs的report里提示
layout：Source：
net 3GND
GND

单独做lvs的时候都pass；-------〉那就是单个cell 没问题呗
整体的不对，出来什么错误呢?
ps：npoly和ppoly的gds no. 一样么?

layout上把两个GND连起来

找到问题了，
pad的版图里，GND net所在的二铝打了两个电阻标识，calibre认为这两个电阻标识把GNDnet 分成了三条。我现在处理的方法是把这个电阻删了。
不知道在runset file咋改这个规则?谁提点建议，大概是什么关键字什么描述语句处理这个问题的?

1. Device. 如果那里有两个device，两端自然不是同一根net,看lvs report就知道了
2. Connect. 如果connection的metal要求不含那个标识层，那你要让那里和旁边的metal connect起来才行

我对读这个runset file不熟悉啊，哪条指令控制让这样的metal连接起来的?

connect，比如说原来是：
connect M1_without_SAB diffusion by contact
你可以改成：
connect （M1_without_SAB or M1_with_SAB) diffusion by contact
也可以增加这句：
connect M1_without_SAB M1_with_SAB
对照你的 rule file, 不懂的查阅SVRF吧，完全不了解的话三言两语说不清
当然，首先要确保的是版图是正确的，还要知道 rule file 有没有提供 option 来控制（IFDEF 这种东西）

你很热心，都快赶上我年轻的时候了

晚上回去试试