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ICC中create_fp_placement 的时候出现的错误,是不是库出现问题了呢?

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
1、就是整个过程都会报类似电源地的属性为dont_use,看了下lib,里面默认为dont_use,然后我用命令remove_attribute [get_lib_cells iogp_il_csm18ic_ss_1p62v_3p0v_4p5v_125c/PVDD] dont_use去掉,但是依然还是会一直报这个警告!
Warning: The 'PVDD' cell in the 'iogp_il_csm18ic_ss_1p62v_3p0v_4p5v_125c' technology library is being
marked as "dont_use". (PSYN-039)
Warning: The 'PVDD' cell in the 'iogp_il_csm18ic_ss_1p62v_3p0v_4p5v_125c' technology library does not
have corresponding physical cell description. (PSYN-024)
2、在create_fp_placement的时候出现了很多类似一下的警告和错误,都是在宏单元就是了。这个是说宏单元里面的pin,不会自动放在单元上吗?In the input physical library, correct the definition of the pin.Then recompile the library using the read_lib command.这个是后面提示的解决方法,不是很理解。
Warning: Pin VSS of reference cell PF32K09E has no physical location. (APL-028)
Warning: Pin VDD of reference cell PF32K09E has no physical location. (APL-028)
Loading design 'design_top'
Error: There is no location specified for library pin PF32K09E/ADDR[14]. (PSYN-017)
Error: There is no location specified for library pin PF32K09E/ADDR[13]. (PSYN-017)

Error: Command 'extract_rc' had an error while executing. Discontinuing. (PSYN-003)
Error: extract_rc has abnormally terminated.(OPT-100)

1. get_attr看看属性是否已经拿掉了
2.你用的数据已经变了,对应不上了,所以报错

恩恩get_attribute了下,属性还在。然后就用set_attribute[get_lib_cells iogp_il_csm18ic_ss_1p62v_3p0v_4p5v_125c/PVSS] dont_usefalse再查了get_att了下,属性就为false了,但是呢!重新creat_fp_placemen,问题又出现了,再去get_att,结果又变成了true了,囧了,这个会影响到不呢?反复发作!
第二个是库的问题,因为换了一个工艺,所以宏单元里面的金属名字没对应,所以pin都找不到了,重新生成了下库,问题就解决了。

1.如果只是个电源的IO,应该问题不大吧,排查下log再看看吧
2.所以每次所用的数据是否为最新也是一个检查项的。

恩恩

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