关于setup和hold time 同时分析的问题

180nm以后的工艺 是不是要同时分析建立时间和保持时间?
在一个tcl脚本中，可以实现两种分析吗?就是说在该脚本中同时给出慢库和快库
分析建立时间时候使用慢库分析保持时间的时候，使用快库
本人新手多谢

当然可以了，做了就知道了
-max
就是setup，
-min就是hold

小编那么target_library怎么设置?
之前使用慢库set target_library slow 就可以了
如果在一个脚本中使用两种库 这个指令要修改否?

http://bbs.eetop.cn/viewthread.p ... p;extra=#pid6577052
看下对你有没有帮助。

你好，请问你的问题解决了吗?我也不太明白target_library要怎么设置。
我有看到在设置set_operation_condition的时候，加上-min_library fast的方式，不知道这样对不对。
但是这样设置的时候，我就会在link_library里面多加一个fast库，不在target_library加fast、。

后端如果是icc， 那么fast/slow.lib都需要写在target， link library里面的，
我说的是std cell ， 如果是其他单元， 主要写在link library里面就行了