微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 微电子和IC设计 > IC后端设计交流 > Lg = 45nm in 90nm process?

Lg = 45nm in 90nm process?

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
Some one told me that, in 90nm, Lg = 50nm, any one knows what Lg means.
Someone told me Lg is physical dimension of gate, I can't understand.

先顶一下 先顶一下

thanks for your information......................... thanks..............................................................

drawn length就是指layout或mask上的,在90nm里就是90nm
而physical length指实际生产出来的chip上device的CD,因为实际工艺中photo和etch都会使实际的gate length变短,所以你会看到说50nm左右的physical gate length

Lg 鷹該是有效的 通道長度吧因為把N+P+ 製作出來的時候 其實一定不是垂直的 而是會凸出來一點這會造成通道長度下降也就是所謂的 short channel effect

Lg一般指的是layout画的大小尺寸,小编所说的90nm的50nm device应该是SEM量出来的物理尺寸

draw length和physical length相差有这么远?那么spice simulation会补偿吗?

应该是沟道长度吧? 标准的90nm的工艺的沟道长度应该就是90nm, 但各家foundary都不一样,有出入,不过intel应该就是这个数. 沟道长度也可以做小, 有某foundary的90nm工艺沟道长度只有~30nm,对外宣称是90nm工艺.

thanks

受教了~

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top