请教一个华虹.13工艺问题
时间：10-02
整理：3721RD
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在工艺文件中看到有difftap两种场氧化物，一个区别是P+diff/N+diff是做在Nwell/Pwell中，而P+tap/N+tap是做在Pwell/Nwell中。看到提供的一些版图都是拿tap加注入层做包环，而不是拿diff来做 ，这是为什么?
没本质区别，便于工程师了解
顶一个！