新手小提问，请大神们赐教

我们一般版图里面画的直角边的图形，在工艺流片之后，图形的直角变成了圆弧型，这是怎么回事，请大神指教，还有，我现在想在圆片上做出来接近直角的图形，那我应该在版图做什么样的直角边补偿呢。

光学

具体原理能说一下吗，我是刚刚涉及这个

为什么非要做直角图形?在版图中不需要考虑图形在最终wafer上的成形，因为这不可控：无论是刻蚀的各向异性还是光的波动性导致的非直线传播，都会导致最终图形不规则。
而实际上，版图只要按照foundry提供的model来设计图形，运用已经验证过的model必然可以得到满足性能的各种器件。在这其中，确实有修正非规则图形的问题，但是这些都已经被foundry的工程人员修正过了。
当然，如果为了画一个logo然后在最终wafer上精确显示，那么真的有点难。

非常感谢楼上的帖子，您说的很对，我现在面临的问题确实是要做出来近似直角的这么一个东西，工艺上，没有想到方法，只能看看版图里能不能补偿一下。