pcell issue for MOS

大家好，如果我想创建上面和下面的active ENC cont这个参数变量，让Y方向上cont的pitch随着width变而变，同时Y方向上cont数量不仅受到width约束还受到上面和下面active ENC cont这个参数约束，那么这种情况下Y Stepping Distance 和 Number of Y Reprtitions怎么填写，如下图，图片放在下面，这里显示不了，不知何故……

多加两个enc的参数在number of y repeatitions里面
fix((w-encx-ency+contspace)/(contwidth+contspace))
然后在adjustments of y strecth里面调整encx: encx-encmin
大概是这个样子吧

试过无效~

现在画版图，也要自己弄Pcell，工艺厂不提供?

有些特殊的器件需要自己定制

看你画的也不像特殊器件啊，特殊器件一般都是固定的画好或者拼接而成吧

cont的pitch和number最好是有一个是常量，因为他两是个二元一次方程，如果都是变量的话，这个方程就无解了。我目前pitch是固定，孔在Y方向居中，孔的个数根据W最大化，Y方向源区包孔是随着W的不同变化的

小编手机拍的吧整个截屏的呗高大上

我目前也是这种方式，但我看foundry提供的PDK里面都是上下有源区包cont可调，cont的间距在Y方向上随W变而变，所以也想做类似的

请问小编和layout123同志，cont在Y方向居中这么操作，一直都没有解决这个问题?虽然时间过了这么久，希望小编能看到！