掩膜版共用问题
时间：10-02
整理：3721RD
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请问：
半导体制造工艺中，做mos阈值电压调整的Vt调整注入用的掩膜板和多晶硅掩膜板是同一块掩膜版吗?谢谢！
半导体制造工艺中，做mos阈值电压调整的Vt调整注入用的掩膜板和多晶硅掩膜板是同一块掩膜版吗?谢谢！
显然不是
不是同一层，那mos管阈值调整注入掩膜板对应我们作画版图上面是那层呢?
不一定有。
你画的那层就那层
能不能说一下有什么工艺不做Vt阈值调整注入?或则在什么情况下不做阈值调整?目前还没遇到过不做Vt调整的工艺
谢谢啊！
能不能说一下有什么工艺不做Vt阈值调整注入?或则在什么情况下不做阈值调整?目前还没遇到过不做Vt调整的工艺
谢谢啊！