中科院与上海微电子自主研制成功新型光刻机

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目前技术领先的是上海微电子装备有限公司，国家科技重大专项”极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02专项）的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核。65纳米到32纳米的具体技术分析：光刻机技术在90纳米是一个技术台阶，迈过90纳米那么很容易做到45纳米，也就是你可以做65纳米的光刻机，那么对65纳米的进行升级可以做到45纳米。45纳米又是一个技术台阶。迈过45纳米的那么就可以升级到22纳米比较容易。22纳米也是一个台阶。迈过22纳米的，升级到14纳米不难。中国目前有90纳米。用90纳米的升级到65纳米不难。但是45纳米就是一个技术台阶了。45纳米的研发比90纳米的和65纳米难很多。如果解决了45纳米那个可以升级到32纳米不难。但是下一步升级到22纳米，不能直接45纳米升级到22纳米了。22纳米用到了很多新的技术。
中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的。2015年出45纳米的并且65纳米的产业化。下面具体说一下45纳米的。因为目前主流的光刻机。包括32纳米的还有28纳米基本都是在45纳米的侵入深紫外光刻机上面改进升级来的。所以中国掌握45纳米的很重要。65纳米的在90纳米上面升级物镜到1.2口径就可以了。45纳米光刻机是一个很重要的台阶，达到这个水平后，在45纳米光刻机上面进行物镜和偏振光升级可以达到32纳米。
另外用于光刻机的固态深紫外光源也在研发，我国的光刻机研发是并行研发的，22纳米光刻机用到的技术也在研发，用在45纳米的升级上面。还有电子束直写光刻机，纳米压印设备，极紫外光刻机技术也在研发。对光刻胶升级，对折射液升级，并且利用套刻方法可以达到22纳米到14纳米甚至10纳米的水平。相应的升级的用的光刻胶，第3代折射液，等也在相应的研发中。
我们每一项重大的技术进步、产业掌控。等于就是在别人口里夺食。各种封堵，圈套，诡计那是必须的。而我们依然能从牢笼中冲出路来。那是需要很大的付出的。
说白了，都是生意，人家比你领先，就要制裁你，只能让你用他们的东西。你做出来了，就把以前的垃圾便宜卖你，把你自主创新的动力根除，最后还是用人家的东西。虽然说个人在经济属性上是很右的，但也得承认，这种闷声发大财，运气憋大招的玩法，还是要靠国企。面对技术垄断，民企的力量依然不足以撼动行业内老大的地位啊。

大家有什么看法？

可以贴asml 和 这产品的 指标对比吗
看下是不是达到要求
还有兼容性要求 通常你这个机器必须能够替代某型号设备 否则很难说服大厂为你一台机器重新开发一次工艺