微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 信号完整性分析 > 信号完整性分析讨论 > 关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness

关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness,设置值多少才正确,仿真了2个比较,差别不大。

那玩意只是个摆设吧。

这个要看你使用的是什么样的铜箔,有的是1um多,有的是2um多,也有的4um多。

Hammerstad model
则设置为1 microns rms top and bottom,大部分PCB厂商目前的约为4microns peak to peak surface roughness
Huray model
半径建议设置成0.5 microns  6~8 ratio ,原因同上。你也可以把半径设小,ratio设大来满足精度,但是相应的复杂设计仿真时间会大大增加。

差别主要在损耗上

学习下,留个爪

SIwave仿真粗糙度有点扯,虚假的功能,别那么认真

多谢小编。

你好,请问有什么工具仿真粗糙度比较靠谱呢?

考虑粗糙度的影响和不考虑粗糙度的影响相差还是比较大的
但是考虑了粗糙度之后,是将粗糙度设置为1um或是设置为1.5um,这个差距就不那么大了
所以,需要考虑粗糙度,然后将粗糙度设置为一个一般的值就可以

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top