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采用标准CMOS工艺设计RF集成电路的策略

时间:03-15 来源:OFweek电子工程网 点击:

较大的LO信号必须用来获得门限,这将导致极大的LO馈通(feedthrough)。在CMOS下变频器中,这已经成为一个难题。例如,对于-30dBm的馈通信号,LO输出信号的电平为-23dBm,这表明抑制的信号电平仅为-7dB。这将导致直接上变频拓扑结构出现非常严重的问题,而且通过对LO信号进行方波调制,第三阶谐波将具有30%的信号功率。噪声信号将只能通过附加的外部输出滤波器进行滤波。

  上述问题可以通过在CMOS中对偏离线性区域的MOS混合晶体管中的电流进行线性调制加以解决。对于栅极电压V1+vin1、漏电压V2+vin2/2以及源电压V2-vin2/2,通过晶体管的电流可由下式计算:

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  当LO信号连接到栅极,基带信号连接到vin2时,由于等式(3)的第一项,电流将包含LO附近的频率分量;根据等式3第二项可知,电流还包含基带信号分量。根据上面的原理,可以得到采用标准CMOS技术的 1GHz上变频器。

  所有不期望的测量信号均低于-30dBc。如果采用500Ω的片上负载,那么对于0dBm的LO信号就可实现-10dB转换增益。然而,传统的RF构件内联采用了50Ω的特性阻抗,这意味着CMOS发送器功能需要额外的功率预放大器,以得到外部高效率功率放大器组件的输入阻抗。对于现有的亚微米技术而言,预放大器构件仍是一个严重问题。用以实现900MHz完全集成收发器的典型双极性技术具有20GHz的截止频率。由于目前在高频应用中采用的亚微米技术具有较低的gm/I比率,因此CMOS预放大器的功耗将比双极性技术高至少20倍。然而,得益于CMOS技术的快速下行缩放,现有的CMOS构件实现表明,带有可接受功耗的整体CMOS收发器完全适用于极深亚微米CMOS。


  本文结论

  几个深亚微米技术研究组正致力于研究在RF电路实现CMOS技术的可能性。尤其是在新的接收器拓扑结构(如宽带中频和低中频拓扑结构)开发中,该技术与高线性下变频器相结合,无需添加外部滤波器或其它器件,就能为完全集成的下变频器开发铺平道路。

  然而,由于现有亚微米技术的适中速度性能,必须设计出低噪声低功耗的电路。只要短信道效应不限制线性度和互调性能,深亚微米技术的发展将有助于实现这些目标。

  性能低相位噪声、低功耗、完全集成的VCO电路已出现在CMOS中。虽然开始时遇到一些困难,但后处理技术通过将电感用作接合线,推动了标准CMOS技术的应用。现在,甚至已经出现了带有优化的集成螺旋电感的低相位噪声性能标准CMOS技术,而且无需任何后处理或对外部器件进行调整。这推动了完全集成的收发器电路的发展。

  然而,由于通信系统通常是双向系统,因而也需要发送器电路。直到最近,具有适中输出功率的CMOS上行转换器才出现在公开发表的文章中。同样得益于深亚微米技术的发展,今后将有望实现具有可接受功耗的完全集成CMOS发送器电路。这推动了采用标准CMOS技术的完全集成收发器电路的发展。

  作者:

  Michiel Steyaert

  M.Borremans,

  Katholieke大学

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