超高去除速率铜CMP研磨剂的开发
时间:11-10
来源:互联网
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结论
ER9212研磨剂提供了体Cu高去除速率、良好的形貌和低表面粗糙度。它是高速Cu CMP应用(如Cu 3D TSV、Cu MEMS和顶层Cu CMP等)的优良备选研磨剂。
ER9212研磨剂提供了体Cu高去除速率、良好的形貌和低表面粗糙度。它是高速Cu CMP应用(如Cu 3D TSV、Cu MEMS和顶层Cu CMP等)的优良备选研磨剂。
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