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边,而仅使用传递函数来描述系统。这种MEMS模型将更有利于控制理论技术,这是最高性能设计的一套重要工具。
设计集成
尽管标准IC设计通常由一系列步骤组成,但MEMS设计则截然不同;设计、布局、材料以及MEMS封装本质上是交织在一起的。正因为如此,MEMS设计比IC设计更复杂——通常要求每一个设计"阶段"同步发展。
MEMS封装过程可能是与CMOS设计分歧最大的地方。 MEMS封装主要是指保护设备免受环境损害,同时还提供一个对外接口以及减轻不必要的外部压力。 MEMS传感器通常须要进行应力测量,过大的应力可能因器件变形及传感器漂移而影响正常功能。
每个MEMS设计的封装往往是唯一的,并且必须进行专门设计。众所周知,在产业中封装成本占总成本的很大一部分——在某些情况下会超过50%。
MEMS封装没有统一标准,仅最近就有多种封装技术涌现,其中包括MEMS晶圆级封装(WLP)和硅通孔(TSV)技术。
制造
源自微电子,MEMS制造的优势在于批处理。就像其它任何产品,MEMS器件规模量产加大了它的经济效益。如同集成电路制造,MEMS制造中光刻方法往往最具成本效益,当然也是最常用的技术。然而,其它处理方式,同时兼具优点和缺点,也在使用,包括化学/物理气相沉积(CVD/ PVD)、外延和干法蚀刻。
尽管很大程度上取决于特定应用,但相比于其电子性能,MEMS器件中使用的材料更看重它们的机械性能。所需的机械性能可能包括:高刚度,高断裂强度和断裂韧性,化学惰性,以及高温稳定性。微光学机电系统(MOEMS)可能需要透明的基底,而许多传感器和作动器必须使用一些压电或压阻材料。
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作者简介:
David Askew 是贸泽电子的一个技术专家,特别是在嵌入式系统和软件方面。他拥有美国德州大学阿灵顿分校的电子工程学士学位。
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